任职要求：

• 拥有微电子工程或相关领域的硕士及以上学位，具有扎实的专业基础；

•  熟练掌握EBL（电子束光刻）和纳米压印技术，具备丰富的实际操作经验；

• 至少5年以上的亚波长光刻工作经验，熟悉先进的光刻设备和工艺流程；

• 具备良好的数据分析能力和问题解决能力，能够独立完成光刻工艺中的各项任务；

• 工作态度严谨认真，具有团队合作精神和较强的沟通协调能力。

工作内容：

• 负责纳米级光刻图形的设计与掩膜版的优化工作，确保图形质量达到行业标准；

• 编写光刻胶选择指南，制定曝光参数矩阵，提高光刻效率和成品率；

• 实施光刻误差溯源分析，提出有效的补偿方案，持续改进光刻工艺；

• 参与光刻相关技术的研发工作，推动公司技术水平的进步。